谈一谈真空氧化烘箱薄膜铌酸锂芯片中的应用

搞风又搞雨

近些年发展起来的薄膜铌酸锂制备与刻蚀工艺令铌酸锂材料重新活跃于集成光学领域，以铌酸锂高速调制器为代表的一系列集成光学器件得以发展。此外，铌酸锂的其他光学性能也十分越，下面从铌酸锂晶体性质入手，说明为什么它在集成光学领域极具潜力。


近日，清华大学精密仪器系李杨副教授团队在薄膜铌酸锂平台上现了集成光学相控阵。基于薄膜铌酸锂电光调制器，此类集成光学相控阵有望现超高调制速度、超低能量消耗、低插入损耗。由于该器件能够现超高扫描速度，在传统应用之外，为其他新应用开辟了可能性，例如高密度点云生成和层析全息术。





光学相控阵在激光雷达、自由空间通信、虚拟现（VR）增强现（AR）、医学扫描成像等领域有着广泛的应用。在以上这些应用中，相比机械转镜现的光束扫描，光学相控阵能够提供更长的使用寿命。





现光学相控阵的方法有：液晶、MEMS、集成光学，其中集成光学相控阵能够利用现代微电子加工工艺，现大规模量产。目前主流材料平台是硅基平台，在该平台上，通过热光或电光相位调制的方法，能够现波束发角度的偏转。





真空氧化烘箱


真空氧化烘箱用于半导体晶片、半导体封装和MEMS器件的批量生产。主要用于PICPI固化，BCB固化，PBO固化，LCP纤维热处理。


真空氧化烘箱技术性能





温度范围：50～300450℃


升温速率：1～10℃，可调


降温时间：≤90


氧含量性能：≤10


材料：耐高温316L不锈钢


保温材料：高性能陶瓷纤维


冷却方式：辅助降温


操作方式：人机界面













基于这个原因，可以推测高温真空烘箱的市场反馈会越来越好，也正是其能够发展起来的重要原因之一。上海隽思实验仪器有限公司坐落于中国上海，奉贤区柘林镇工业园区。http://www.junsicn.com/